CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
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Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Suministro de superfino tántalo siliciuro de polvo TaSi2 partícula se utiliza para anti-oxidación de la capa, Tamaño:100nm,>1um, 1-3um, 10-40um; Pureza:99,5%, de alta calidad, entrega rápida, el precio bajo, por favor, compruebe la especificación.
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
HP7314B-3UPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
gray powderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera:
1-5daysOrden mínima:
100gEspecificación de tántalo siliciuro :
Parte No. | De partículas |
La pureza (%) |
SSA (m2/g) |
Densidad a granel (g/cm3) |
Densidad (g/cm3) |
Cristal | Color |
HP7314B-100N | 100nm | 99 | 35 | 5.2 | 9.14 | cúbicos | gris |
HP7314B-1U | <1.0 um | 99 | 24 | 5.8 | 9.14 |
cúbicos |
gris |
HP7314B-3U | 1-3um | 99.5 | 18 | 7.4 | 9.14 | cúbicos | gris |
De CAS:12039-79-1;ENINEC No.:234-902-2
Tántalo siliciuro tiene excelentes propiedades tales como el alto punto de fusión, baja resistividad, resistencia a la corrosión y alta temperatura, resistencia a la oxidación, y una buena compatibilidad con el silicio, carbono y otros materiales de base. Se utiliza como puerta de material, circuito integrado de conexión de la línea de alta temperatura de la resistencia a la oxidación de recubrimiento, etc. , Ha sido ampliamente estudiado y aplicado en elementos de calefacción eléctrica, de alta temperatura de las piezas estructurales, dispositivos electrónicos, etc.
Aplicación de tántalo siliciuro :
1) Preparar una nitruro de silicio-tántalo siliciuro de compuestos de material cerámico, el nitruro de silicio-tántalo siliciuro de compuestos de material cerámico está compuesto de las siguientes materias primas en partes por peso: 92-98 partes de nitruro de silicio en polvo, 12-15 piezas de tántalo siliciuro de polvo de las Partes, de 3 a 6 partes de neodimio de polvo, de 2 a 5 partes de rodio polvo de óxido. El nitruro de silicio-tántalo siliciuro de compuesto de cerámica material preparado por la presente invención tiene baja porosidad, y el material cerámico producto puede aún mantener buenas propiedades mecánicas durante la operación de largo plazo y tiene una larga vida de servicio. Además, el nitruro de silicio preparado por la presente invención Tántalo siliciuro de compuestos que tienen los materiales cerámicos de alta resistencia a la fractura, lo cual es beneficioso para satisfacer el mercado, el aumento de requisitos de desempeño para la cerámica de nitruro de silicio materiales.
2) Preparación de tántalo siliciuro de recubrimiento, el método incluye: el uso de tántalo siliciuro de polvo con una gama de tamaños de partículas de 10~120 micrones y una pureza de más de 95wt%, y la pulverización de los tántalo siliciuro de polvo en la superficie por vacío de plasma proceso de pulverización o de plasma de baja presión proceso de pulverización de la superficie de La pretratados resistente da alta temperatura del sustrato material obtiene un tántalo siliciuro de recubrimiento. Los parámetros del plasma proceso de pulverización son: gas de plasma de Ar: 30-50 slpm; gas de plasma H2: 8-18 slpm; polvo de gas portador Ar: 1.5 -5slpm; distancia de aspersión: 100-350 mm; rociar potencia: 30-58kW; polvo de la tasa de alimentación: 8-30 g·min-1; presión de rocío: 100-800mbar.
3) Preparación de un carbono/carbono material compuesto basado en el tántalo siliciuro/carburo de silicio revestimiento, que consta de tántalo siliciuro, carburo de silicio, silicio y una pequeña cantidad de carburos de metales de transición, el cual es preparado por un segundo método de incrustación después de pulir El carburo de silicio revestimiento está integrado directamente y se depositan en la superficie de la tarde de carbono/carbono material compuesto, y, a continuación, un tántalo siliciuro de revestimiento exterior se depositan en la superficie de las emisiones de carbono/de material compuesto, con el carburo de silicio revestimiento depositados por la incrustación de método. La invención se puede utilizar con eficacia la alta temperatura de la resistencia a la oxidación de tántalo siliciuro, aumentar el uso de la temperatura de carbono de carbono y materiales compuestos, llenar el vacío en la investigación de carbono/carbono material compuesto basado en el tántalo siliciuro de revestimientos en casa y en el extranjero, y se convierten en un futuro de carbono de material compuesto, establece las bases para el uso a largo plazo en las temperaturas más altas en este campo.