CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc.
Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
HP2814B-10UPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
grey powderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera：
1-5daysOrden mínima:
100gAplicación de polvo de siliciuro de níquel :
Partícula de Ni2Si se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, termopar de siliciuro de níquel
Especificación de polvo de siliciuro de níquel :
| Parte No. | Partícula |
Pureza (%) |
SSA (m2 / g) |
Densidad aparente (g / cm3) |
re ensidad (g / cm3) |
Cristal | Color |
| HP2814B-10U | 1-10um | 99.5 |
|
7.39 | granular | gris |
Nota: Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de partículas de NiSi2 de acuerdo con los requisitos del cliente.
Condiciones de almacenaje:
Las partículas de Ni2Si deben sellarse y almacenarse en un ambiente seco y fresco. No debe exponerse al aire durante mucho tiempo, para evitar la aglomeración debida a la humedad, lo que afecta el rendimiento de la dispersión y el efecto de uso, y debe evitar la presión excesiva, no entrar en contacto con el oxidante y el transporte de acuerdo con los productos normales.
Partícula de Ni2Si 10um se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Pureza: 99.5%
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Tamaño: 20nm, 40nm, 100nm, 1-3um, 5um Pureza: 99.9%, 99% CAS No: 25583-20-4 ENINEC No.:234-345-4 Aspecto: polvo negro Forma: cúbico
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Tamaño: 50nm, 100nm, 1-2um, 5um, 10um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-50-8 ENINEC No.:231-159-6 Aspecto: polvo rojo Forma: esférica
Servicio en línea
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