CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
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Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Compre polvo refractario esférico de níquel titanio para impresión 3D de 0-25um y 15-45um, tamaño de 45-105um, 99,9% de pureza, alta calidad, buen precio y tiempo de entrega rápido, verifique las especificaciones.
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
NITI3D-1UPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
grey PowderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera：
1-5daysOrden mínima:
1kgEspecificación del polvo de níquel titanio refractario esférico :
Tamaño: 5-25um, 15-45um, 15-53um, 45-75um, 45-105um, 75-150um (se pueden personalizar varios tamaños de partículas según los requisitos del cliente)
Color:gris
Forma: esférica
Elemento: Ti:equilibrio, Ni:56,2%, C:0,0066%, Fe:0,008%, N:0,0045%, O:0,064%
Alta pureza (≥ 99,9 %), bajo contenido de oxígeno (≤ 300 ppm), alta esfericidad (≥ 98 %), superficie lisa, sin satélites, distribución uniforme del tamaño de partículas, excelente rendimiento de flujo (≤ 25,0 s/50 g), alta densidad de empaquetamiento suelto (≥ 2,1 g/cm ³) y densidad de vibración (≥ 2,8 g/cm ³)
El polvo de níquel titanio refractario esférico se fabrica utilizando tecnología de esferoidización por plasma de radiofrecuencia, que tiene las características de alta pureza, bajo contenido de oxígeno, alta esfericidad, superficie lisa, sin satélites, distribución uniforme del tamaño de partículas, excelente rendimiento de flujo y alta densidad de empaquetamiento suelto. densidad de vibración.
Aplicación de polvo de níquel titanio refractario esférico:
1. Fabricación aditiva por láser/haz de electrones (SLM/EBM, impresión 3D)
2. Deposición directa por láser (DLD)
3. Prensado isostático en caliente (HIP) de polvo
4. Moldeo por inyección de metal (MIM)
5. Revestimiento láser (LC) y otros procesos.
Condiciones de almacenamiento:
el polvo de níquel titanio refractario esférico debe sellarse y almacenarse en un ambiente seco y fresco. No debe exponerse al aire durante mucho tiempo para evitar la aglomeración debido a la humedad, lo que afecta el rendimiento de la dispersión y el efecto de uso, y debe evitar una presión intensa, no entrar en contacto con oxidantes y transportarse de acuerdo con las mercancías comunes.
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Tamaño: 100nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-42-8 ENINEC No.:231-151-2 Aspecto: Polvo negro marrón Forma: esférica
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Tamaño: 40nm Pureza: 99% CAS NO.:12063-19-3 Aspecto: polvo rojo oscuro Morfología: esférica
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