CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Al adoptar el sistema de formación SLM avanzado europeo, cualquier estructura complicada se puede formar a la vez sin soldar. Tiempo de entrega significativamente reducido en 2/3.
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
SAT-3DSLSPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
greyPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera：
1-5daysOrden mínima:
1pcsCaracterísticas técnicas:
Tamaño: el tamaño máximo de una sola moldura es 4 20mm, y el tamaño de empalme puede alcanzar 1 m-2 m
Resistencia: el más alto entre los materiales plásticos, nailon termoplástico real resistente a altas temperaturas, material de fibra de vidrio, la resistencia es más del doble que la del ABS.
Etapa tardía: los materiales de nailon y fibra de vidrio pueden aceptar casi todos los procesos de postratamiento de materiales metálicos, incluido el esmerilado, pulido, pintura y galvanoplastia.
Precisión: la precisión de la pieza impresa es de + -0,1 mm
Ventajas tecnicas:
1. Los materiales termoplásticos reales se pueden utilizar directamente en la producción de piezas.
2. Tener una buena calidad de superficie.
3. El material tiene buena elasticidad y dureza.
4. Material ultrarresistente y resistente a la temperatura.
5. No hay estructura de soporte y el diseño es completamente gratuito; En comparación con los plásticos generales, el nailon tiene las ventajas de resistencia al desgaste, dureza, peso ligero, resistencia al calor, resistencia al frío, fácil moldeado, no tóxico, fácil teñido, etc.
Proceso de impresión: diseño de dibujos, modelado de diseñador, confirmación de dibujos, cálculo de peso, cotización, proceso y envío.
Campos aplicables:
Producción de prueba de prototipos de autopartes
Modelo prototipo electrónico de bienes de consumo
Fabricación de lotes pequeños de productos industriales
Modelo de cirugía médica
Diseño y desarrollo de dispositivos médicos
Desarrollo de productos culturales y creativos.
Modelo de diseño arquitectónico
Adoptando el sistema de formación SLM avanzado europeo, cualquier estructura complicada se puede formar a la vez sin soldadura. Tiempo de entrega significativamente reducido en 2/3.
HSLA proporciona la tecnología SLA más avanzada para 3D Systems en los Estados Unidos y HSLA proporciona la mejor calidad de superficie;
Capaz de imprimir detalles obvios, duraderos y de alta precisión de la impresión, el tamaño de característica más pequeña del objeto puede ser de hasta 0,25 mm
Tamaño: 50nm, 200nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-69-9 ENINEC No.:231-177-4 Apariencia: polvo amarillo claro Forma: esférica
Comprar Natural Conductora de Grafito Polvos Utilizados En las Baterías, Tamaño:40-50nm, de 80 a 100 nm, 1-3um, 5um, 10um, 45um, Pureza:99,95% de alta calidad, precio bajo, entrega rápida, por favor, haga clic en él para consultar el pliego de condiciones.
Tamaño: 0.5um, 1-3um, 5um Pureza: 99% Nº CAS: 10043-11-5 ENINEC No.:233-136-6 Apariencia: liquida Forma: Hexagonal
Comprar materiales refractarios nano de Circonio Diboride ZrB2 Polvo, Tamaño:100 nm, 1-3um, 5um, Pureza:99,5%, de alta calidad, precios bajos y entrega rápida, por favor, haga clic en él para consultar el pliego de condiciones.
Tamaño: 500nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS No: 12039-90-6 ENINEC No.:234-911-1 Aspecto: Polvo gris Forma: Amorfo
Tamaño: 50nm, 100nm, 1-2um, 5um, 10um Pureza: 99.9% CAS No: 1314-35-8 ENINEC No.:215-231-4 Aspecto: Polvo amarillo Forma: Columna
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