CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Tamaño: 500nm, 1-3um
Pureza: 99.9%
CAS No: 12401-56-8
 ENINEC No.:235-640-1
 Aspecto: Polvo gris
Forma: Amorfo
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
HP7214B-1UPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
grey PowderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera:
1-5daysOrden mínima:
1kgEspecificación de polvo HfSi2:
| Parte No. | Partícula | Pureza (%) | SSA (m2 / g) | Densidad a granel (g / cm3) | Densidad (g / cm3) | do rystal | Color | 
| HP7214B-500N | 500nm | 99.9 | 53 | 58 | 8.01 | amorfo | gris | 
| HP7214B-1U | 1-3um | 99.9 | 27 | 87 | 8.01 | amorfo | blanco | 
El producto tiene alta pureza, tamaño de partícula pequeño, distribución uniforme, gran superficie específica y alta actividad superficial.
	
 Aplicación de Polvo HfSi2 : 
Materiales cerámicos, fabricación de varias piezas resistentes a altas temperaturas y piezas funcionales, etc.
	
	 Condiciones de almacenaje:
 El polvo de HfSi2 debe sellarse y almacenarse en un ambiente seco y fresco. No debe exponerse al aire durante un tiempo prolongado, evitar la aglomeración debido a la humedad, afectar el rendimiento de la dispersión y el efecto de uso, evitar una presión fuerte, no entrar en contacto con el oxidante y transportarse de acuerdo con los productos comunes.
 Servicio en línea
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