CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Tamaño: 500nm, 1-3um
Pureza: 99.9%
CAS No: 12039-90-6
ENINEC No.:234-911-1
Aspecto: Polvo gris
Forma: Amorfo
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
HP4014B-500NPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
black PowderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera：
1-5daysOrden mínima:
1kgEspecificación de Silicida superfino de zirconio :
| Parte No. | Partícula |
Pureza (%) |
SSA (m2 / g) |
Densidad a granel (g / cm3) |
Densidad (g / cm3 ) |
Cristal | Color |
| HP4014B-500N | 500nm | 99.9 | 26.3 | 26 | 4.8 | amorfo | gris |
| HP4014B-1U |
1-3um | 99.9 | 10.9 | 45 | 4.8 | amorfo | blanco |
El producto tiene alta pureza, tamaño de partícula pequeño, distribución uniforme, gran superficie específica y alta actividad superficial.
Aplicación de Silicida superfino de zirconio :
Utilizado principalmente como polvo fino de la materia prima de cerámica para la producción de helio de la producción de la película del semiconductor.
Condiciones de almacenaje:
el silicón superfino de zirconio debe sellarse y almacenarse en un ambiente seco y fresco. No debe exponerse al aire durante un tiempo prolongado, evitar la aglomeración debido a la humedad, afectar el rendimiento de la dispersión y el efecto de uso, evitar una presión fuerte, no entrar en contacto con el oxidante y transportarse de acuerdo con los productos comunes.
Tamaño: 500nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS No: 12039-90-6 ENINEC No.:234-911-1 Aspecto: Polvo gris Forma: Amorfo
Tamaño: 500nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS No: 12039-90-6 ENINEC No.:234-911-1 Aspecto: Polvo gris Forma: Amorfo
Tamaño: 40nm, 70nm, 100nm, 1um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-57-5 ENINEC No.:7440-66-6 Aspecto: polvo negro Forma: esférica
Tamaño: & gt; 10um, 10-50um Aspecto: Polvo gris Forma: esférica
HSLA proporciona la tecnología SLA más avanzada para 3D Systems en los Estados Unidos y HSLA proporciona la mejor calidad de superficie;
Tamaño: 50nm, 80nm, 100nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-33-7 ENINEC No.:231-143-9 Aspecto: polvo negro Forma: esférica
Compre dispersión de puntos cuánticos MoS2 (2H), diámetro de 10 nm, alta calidad, precio bajo y entrega rápida. Si tiene algún interés, haga clic para verificar las especificaciones.
Comprar esférico Al polvo de aluminio como eficaces catalizadores,Tamaño de 100nm, 200nm, Pureza:99.9%, alta calidad, precio bajo, entrega rápida, por favor, haga clic en él para consultar el pliego de condiciones.
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Tamaño: 20-30nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS No: 1313-99-1 ENINEC No.:215-215-7 Aspecto: polvo verde gris Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm CAS No: 14475-63-9 ENINEC No: 238-472-7 Pureza: 99.9% Aspecto: polvo blanco Forma: amorfo
Tamaño: 500 nm, 1-2um, 10um | Pureza: 99,9% | No CAS: 25658-42-8 ENINEC No.:247-166-2 | Forma: cúbico Apariencia: polvo amarillo
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