CAS 7440-05-3 Pd nanopolvo de paladio ultrafino como catalizador
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Tamaño: 20-30nm Pureza: 99.95% Nº CAS: 7440-05-3 ENINEC No.:231-115-6 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo de siliciuro de niobio de acuerdo con los requisitos del cliente. Tamaño: 1-3um; Pureza: 99.5%; Forma: granular No. CAS: 12034-80-9; ENINEC No.:234-812-3
La partícula de Ni2Si, 99.5% de pureza, forma granular, se utiliza para el circuito integrado microelectrónico, película de siliciuro de níquel, etc. Tamaño: 1-10um; No. CAS: 12059-14-2; ENINEC No.:235-033-1
Tamaño: 1-3um
Pureza: 99.5%
Nº CAS: 12039-83-7
ENINEC No.:235-902-2
Apariencia: polvo gris negro
Forma: amorfa
Marca:
SAT NANOArtículo No.:
HP2214B-1UPago:
TT, Paypal, WUOrigen del producto:
ChinaColor:
Black grey PowderPuerto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTiempo de espera：
1-5daysOrden mínima:
100gEspecificación del polvo de silicona de titanio superfino:
Tamaño: 1-3um
Pureza: 99.5%
Densidad: 4.39g / cm3
Solubilidad: Soluble en ácido fluorhídrico, insoluble en agua.
Nota: Podemos suministrar productos de diferentes tamaños de polvo HfSi2 de acuerdo con los requisitos del cliente.El siliciuro de titanio se utiliza en la industria de los semiconductores. Por lo general, se cultiva mediante tecnología de siliciuro sobre líneas de silicio y polisilicio para reducir la resistencia de la lámina de las conexiones de transistores locales. En la industria microelectrónica se usa típicamente en la fase C54.
Aplicación de Silicuro de titanio superfino :
Ampliamente utilizado en microelectrónica, semiconductores, material aeroespacial resistente a altas temperaturas, materiales de recubrimiento, materiales cerámicos, materiales cerámicos, etc.
Condiciones de almacenaje:
Superfine Titanium Silicide debe sellarse y almacenarse en un ambiente seco y fresco. No debe exponerse al aire durante mucho tiempo, para evitar la aglomeración debida a la humedad, lo que afecta el rendimiento de la dispersión y el efecto de uso, y debe evitar la presión excesiva, no entrar en contacto con el oxidante y el transporte de acuerdo con los productos ordinarios.
Tamaño: 1-3um Pureza: 99.5% Nº CAS: 12039-83-7 ENINEC No.:235-902-2 Apariencia: polvo gris negro Forma: amorfa
Tamaño: 1-3um Pureza: 99.5% Nº CAS: 12039-83-7 ENINEC No.:235-902-2 Apariencia: polvo gris negro Forma: amorfa
Tamaño: 20-30nm CAS No: 14475-63-9 ENINEC No: 238-472-7 Pureza: 99.9% Aspecto: polvo blanco Forma: amorfo
Tamaño: 100nm, 1-3um Pureza: 99.9% CAS no: 7440-42-8 ENINEC No.:231-151-2 Aspecto: Polvo negro marrón Forma: esférica
Comprar 15nm de óxido de zinc en polvo de alta actividad de óxido de zinc fotocatálisis , Pureza:99.9%, de alta calidad, precios bajos y entrega rápida, por favor, haga clic para activar la especificación
Diámetro:20-100nm ; Longitud:20-30um ; Pureza:99,95% de CAS Nş:consulta ; ENINEC No.:consulta Apariencia: gris plata líquida; Forma:fibra
Tamaño: 30nm, 50nm, 80nm, 1-2um, 5um Pureza: 99.9% Forma: monoclínico CAS No: 1314-23-4 ENINEC No.:215-227-2 Aspecto: polvo blanco
Tamaño: 60nm Pureza: 99.5% Aspecto: polvo negro Morfología: esférica
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Diámetro: 50-200nm Longitud: 1-10um Pureza: 99% Nº CAS: 7440-50-8 ENINEC No.:231-159-6 Apariencia: polvo rojo Forma: Aguja
Tamaño: 0.4-0.7um, 0.85-1.12um Pureza: 99.9% Nº CAS: 12138-09-9 ENINEC No.:235-243-3 Apariencia: Polvo negro Forma: esférica
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