Objetivo: A preparar una suspensión de pulido de α- AL2O3 nanopartículas con buena dispersión estabilidad; para mejorar el rendimiento químico de pulido mecánico de zafiro;

dispersar α-AL2O3 en diferentes medios dispersantes, como Silica Sol, Sol de óxido de cerio, agua, etc.; Prepare una suspensión de pulido de α-AL2O3 nanopartículas Bajo las condiciones de diferentes pH, diferentes concentraciones de Sol Sol y Partícula Sol Silica Tamaño; La estabilidad de la suspensión de pulido y el efecto de la suspensión de pulido en el rendimiento de la mecánica química del zafiro pulido; Se utilizó el potenciómetro Zeta para medir el potencial de α-AL2O3 en el pulido Slurry; La estabilidad de la dispersión se analizó; El microscopio de fuerza atómica (AFM) y el equilibrio analítico evalúa la rugosidad de la superficie de zafiro (RA) y tasa de eliminación de materiales (MRR) respectivamente;

Resultados: Cuando El medio de dispersión es de sílice SOL; La estabilidad de la suspensión de pulido y el rendimiento de pulido para el zafiro es mejor; cuando El pH de la suspensión de pulido es 10; Su estabilidad de dispersión es mejor; y la corrosión química y la molienda mecánica alcanzan un equilibrio dinámico ; La suspensión de pulido tiene mejor rendimiento de pulido para zafiro; con el aumento de α-AL2O3 concentración; El rendimiento de pulido de la suspensión aumenta primero y luego, disminuye; cuando la fracción masiva de α-AL2O3 es 10.0%; pulido de suspensión El rendimiento de pulido para el zafiro es mejor; cuando La fracción masiva de Silica Sol es 0.02%; La estabilidad de la dispersión de la suspensión de pulido y el rendimiento de pulido para el zafiro son mejor; con el aumento del tamaño de la partícula de Silica Sol, la estabilidad de la suspensión de pulido y El rendimiento de pulido de zafiro está obteniendo gradualmente, peor; Por lo tanto, Silica Sol con un tamaño de partícula de 5nm se selecciona como la dispersión medio; es decir, pulir en las condiciones de 10.0% α-AL2O3, 0.02% Sol de sílice con un tamaño de partícula de 5 nm, y el valor de pH de 10 la suspensión tiene buena estabilidad; La tasa de eliminación de material de la suspensión para el pulido de zafiro es 15.16nm / Min; la rugosidad de la superficie después del pulido es 0.272nm; cumple con los requisitos de la posterior epitaxial Proceso de zafiro; El sol de sílice de la concentración adecuada puede mejorar significativamente el α- La estabilidad de la dispersión de al2o3 pulido Slurry; y el rendimiento de pulido de zafiro ha sido significativamente mejorado;

sábado nano puede suministraralfa AL2O3 nanopowder 50nm, 100nm, 200 nm, 500nm Se utiliza para pulir, si tiene alguna consulta, no dude en contactarnos en admin@satnano.com